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Das innovative Unternehmen

  
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Hrsg.: Barske, Gerybadze, 
Hünninghausen, Sommerlatte
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7. Februar 2002

Mikroschneiden mit Laserlicht

(he) Bauteile in der Mikrosystemtechnik, der Medizintechnik, der Biotechnologie und der Mikroelektronik werden immer kleiner. Um die nötige Präzision dabei zu erreichen, werden exakt arbeitende Werkzeugmaschinen benötigt. Das Fraunhofer-Institut präsentiert auf der auf der Hannover-Messe Industrie 2002 im April einen Laser, der mit bisher nicht erreichter Genauigkeit arbeitet.

Feinste Schnitte, Strukturierungen und Bohrungen in Materialien aus verschiedenen metallischen Werkstoffen, Keramikscheiben, Polymeren oder Silizium-Wafern benötigt die Industrie heutzutage, um Mikrostrukturen zu erzeugen. Anwendungsbeispiele sind das Bohren von Einspritzdüsen für Verbrennungsmotoren, das Vereinzeln von Wafern oder die Herstellung von Strahlteilern für Röntgenstrahlung.

Obwohl bei der aktuellen Laserschneidetechnik schon mit kurzen Laserimpulsen bei Pulsdauern bis zu 15 Nanosekunden gearbeitet wird, um eine thermische Beeinflussung zu reduzieren, sind Aufschmelzerscheinungen unvermeidlich. Eine weitere Verminderung dieser Effekte kann durch den Einsatz von Lasern im UV-Wellenlängenbereich erreicht werden.

UV-Laser arbeiten mit niedrigeren Temperaturen und lassen sich dank der kürzeren UV-Wellenlängen wesentlich besser fokussieren, was zu geringeren Schnittfugenbreiten führt. Für dieses Aufgabengebiet hat das Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik IWS in Dresden eine Mikrostrukturierungsanlage zum Schneiden, Bohren und Strukturieren eingerichtet.

Herzstück der Anlage sind zwei diodengepumpte Festkörperlaser. Die Pulsfrequenz erzielt das Gerät nicht durch An- und Abschaltung der Laser. So kann der Strahl im thermischen Gleichgewicht kontinuierlich arbeiten. Die Schneideleistungen sind beeindruckend. So erlaubt die hohe Strahlqualität Schnittfugenbreiten von 16 µm bei Wafer-Dicken von 220 µm. Und die Nachbearbeitung ist wenig aufwendig, da es bei Silizium kaum zum Austrieb von Schmelze kommt. Auftretende Ablagerungen von Siliziumoxid können leicht im Ultraschallbad entfernt werden.

Zu sehen ist die Mikroschneide-Anlage auf vom 15. bis 20. April in Halle 6 / Stand D 18 auf der Hannover-Messe.

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